光刻机对芯片的重要性,相信关注芯片产业的人都清楚,那真的是至关重要的。
而目前全球的光刻机格局,大家也清楚,ASML一家独大,佳能技术一般般,但凭借成熟工艺设备,市场份额倒是排在第二名,再是尼康,再是上海的微电子。
从技术上来看,ASML独霸全球,再是尼康,再是佳能、上海微电子。
上面这个图,是非常明显的,展示了当前的市场格局,技术分层等情况。可以看到,不管是从市场来看,还是从技术来看,国产光刻机厂商上海微电子,和前面的厂商,还是有距离的。
不过,虽然有差距,但也证明提升的空间非常大,只要上海微电子多努力,那么发展将是迅速的。
近日,有机构统计了2025年全球前30大半导体设备厂商,我们发现上海微电子,经过这几年的努力,已经冲到了全球第20名。
如上图所示,目前全球前20名,中国大陆只有三家企业上榜,而上海微电子排在第20名,也是上榜的企业之一,也是国内唯一的光刻机整机厂。
为何能够成为全球前20名,是因为上海微电子这几年发展迅速,虽然技术与ASML有一定的差距,但也在慢慢的追上来了,目前已经达到了干式DUV的水平,也就是ArF的水平。
虽然在前道光刻机上有差距,但上海微电子在后道光刻机这一块,是非常强的,后道光刻机也就是封装光刻机,相对而言,对分辨率工艺要求没有那么的高,每年出货量几百台。
并且后道光刻机方面,已被国内众多的封测企业***用,大批量的订购,所以上海微电子能够杀进全球前20名。
按照媒体的说法,目前上海微电子的光刻机,离浸润式光刻机,已经只有一步之遥了,因为干式DUV,与浸润式DUV,光源相同,工作台也相同,差的只是一套浸润式系统,这套系统就是在工作台前,有一层水为介质。
目前国内很快就会突破这一技术,而一旦进入浸润式光刻机领域,那么国产光刻机,将全面崛起,不必看ASML的脸色了,因为浸润式光刻机,也是能够支持到5nm,甚至3nm芯片的。返回搜狐,查看更多
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